上海岩征实验仪器有限公司
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首页 > 供应产品 > 光化学高压反应釜
光化学高压反应釜
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产品： 浏览次数：231光化学高压反应釜 
品牌： 岩征仪器
压力： 10mpa
温度： 250
规格： 100
单价： 面议
最小起订量： 1 台
供货总量： 99999 台
发货期限： 自买家付款之日起 20 天内发货
有效期至： 长期有效
最后更新： 2018-08-15 08:39
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详细信息
 上海岩征生产的光化学高压反应釜，使用温度300℃内，使用压力：10mpa,适用于光化学高压反应、二氧化碳（CO2）还原、二氧化碳（CO2）还原制甲醇（CH3OH）、二氧化碳（CO2）还原制甲烷（CH4）、氮氧化物（Nox）的还原降解、甲醛的高压光催化降解等领域
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