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公司基本资料信息
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上海岩征生产的光化学高压反应釜，使用温度300℃内，使用压力：10mpa,适用于光化学高压反应、二氧化碳（CO2）还原、二氧化碳（CO2）还原制甲醇（CH3OH）、二氧化碳（CO2）还原制甲烷（CH4）、氮氧化物（Nox）的还原降解、甲醛的高压光催化降解等领域
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